大型RF真空等離子清洗機(jī) plasma處理設(shè)備觸摸電腦+PLC多步流程全自動(dòng)控制，全電路檢測(cè)，用于LCD、PCB、LED、太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)大批量清洗，進(jìn)口配置。等離子清洗機(jī) / 等離子刻蝕機(jī) / 等離子處理機(jī) / 等離子去膠機(jī) / 等離子表面處理機(jī)
去除表面污染物，提高表面活性，增強(qiáng)附著性能。提高親水性 等離子清洗機(jī)能依據(jù)特定的情況更改一些材料的表層特性。等離子清洗設(shè)備在清洗過(guò)程中的輝光放電能提高這些材料的黏附性、相溶性和潤(rùn)滑性。等離子清洗機(jī)電源選用RF射頻電源，穩(wěn)定可靠的功放模塊和DC模塊，確保了電源的RF輸出功率輸出， 大型真空等離子清洗機(jī)， 觸摸屏+PLC全自動(dòng)控制，可進(jìn)行多步工藝流程處理，采用進(jìn)口配件, 有手動(dòng)、自動(dòng)兩種控制模式，真彩觸摸屏，進(jìn)口可編程控制器，可在線設(shè)定、修改、監(jiān)控真空壓力、處理時(shí)間、氣體流量、等離子功率等工藝參數(shù)，并具有故障報(bào)警、工藝存儲(chǔ)、密碼鎖定、系統(tǒng)維護(hù)等多種功能。 GDR-400PR/PM長(zhǎng)期備有現(xiàn)貨，交貨時(shí)間快!可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制； 真空等離子清洗設(shè)備的處理是一個(gè)干躁的過(guò)程。運(yùn)用電能催化反應(yīng)，可提供低溫工作環(huán)境，避免使用危險(xiǎn)的濕式化學(xué)清洗物質(zhì)。等離子清洗機(jī)是屬于**、靠譜、環(huán)保的，簡(jiǎn)易地說(shuō)等離子體清洗機(jī)融合了等離子體物理、化學(xué)和固態(tài)表面反應(yīng)，能合理有效地消除材料表層的殘留污染物，確保材料表層和本身特性不受影響。 大型真空等離子清洗機(jī)適用于大批量、大尺寸材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機(jī)物、鍍膜前處理、器械**等等 1. 等離子表面活化/清洗 5.等離子涂鍍（親水，疏水）
2. 等離子處理后粘合 6.增強(qiáng)邦定性
3. 等離子蝕刻/活化 7.等離子涂覆
4. 等離子去膠 8.等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合
大型RF真空等離子清洗機(jī) plasma處理設(shè)備應(yīng)用于材料表面清洗有機(jī)污染物，同時(shí)鍍膜覆蓋層粘合性改善， 提高可靠性。等離子清洗機(jī)有幾種稱謂，英文叫（Plasma Cleaner）又稱等離子體清洗機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機(jī)，等離子表面處理機(jī),電漿清洗機(jī)，Plasma清洗機(jī)，等離子去膠機(jī)，等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)/等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場(chǎng)合。通過(guò)等離子清洗機(jī)的表面處理，能夠改善材料表面的潤(rùn)濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂
等離子清洗機(jī)在完成清洗去污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。