產(chǎn)品資料

等離子去膠機(jī) wafer晶圓除膠處理設(shè)備

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產(chǎn)品名稱: 等離子去膠機(jī) wafer晶圓除膠處理設(shè)備
產(chǎn)品型號: ICP500
產(chǎn)品展商: Guarder戈德爾
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

等離子清洗機(jī)有幾種稱謂,英文叫(Plasma Cleaner)又通過其等離子表面處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。


等離子去膠機(jī) wafer晶圓除膠處理設(shè)備  的詳細(xì)介紹

等離子清洗機(jī)能各種基礎(chǔ)材料活化表面,去污,提高親潤性,解決印刷,粘接不牢固問題;電子產(chǎn)品刻蝕,除膠,改善附著力
等離子清洗機(jī)英文叫(Plasma Cleaner)又稱等離子體清洗機(jī),等離子清洗器,等離子清洗儀,等離子刻蝕機(jī),等離子表面處理機(jī),電漿清洗機(jī),plasma清洗機(jī),等離子去膠機(jī),等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)/等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。

通過等離子清洗機(jī)表面處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作,增強(qiáng)粘合力、鍵合力,同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

等離子清洗機(jī)能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用,低溫處理,不損傷樣品,等離子去膠機(jī)不但可以去除一般的光刻膠,還可以去除在等離子刻蝕過程中產(chǎn)生的殘留聚合物。

晶圓光刻膠的去除,等離子清洗機(jī)起到關(guān)鍵作用!

等離子清洗機(jī)在去除光刻膠方面的具體用途:等離子清洗機(jī)器的應(yīng)用包括預(yù)處理、灰化/光致抗蝕劑/聚合物剝離、芯片碰撞、靜電消除、介質(zhì)蝕刻、有機(jī)污染去除、芯片減壓等。使用等離子清洗機(jī)不僅可以徹底去除光致抗蝕劑和其他有機(jī)物質(zhì),而且可以活化和增厚芯片表面,提高芯片表面的潤濕性,使芯片表面更有粘合力。


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