等離子清洗處理機(jī)及設(shè)備的活化作用

等離子清洗機(jī)在表面工程應(yīng)用，包括表面清洗、表面活化、消除靜電、表面能蝕變、提高表面潤濕性能、粘接和粘附的表面制備、表面化學(xué)改性以及表面處理。通過活化、接枝和表面包覆對(duì)聚合物和生物材料進(jìn)行表面刻蝕、表面活化處理。

工業(yè)生產(chǎn)中的清洗概念很廣，包括任何與去除污染物有關(guān)的工藝，在不破壞材料表面特性的前提下，有效地**殘留在材料上的微塵，有機(jī)雜物及金屬離子。傳統(tǒng)的清洗方法不能完全將材料表面薄膜去除，而會(huì)留下一層很薄的雜質(zhì)層并且引入新的雜質(zhì)，同時(shí)殘余物處理理困難，消耗大量的酸和水。

等離子清洗機(jī)通過等離子體對(duì)材料表面的轟擊，輕柔地和完全地對(duì)表面擦洗從而對(duì)樣品表面進(jìn)行改性（親水性），同時(shí)除掉表面有機(jī)物，使多種材料之間能夠進(jìn)行貼合、涂覆、鍍膜等工藝操作。從研究開發(fā)到工藝生產(chǎn)使用，從表面微細(xì)加工到表面處理改質(zhì)效果都非常好，應(yīng)用廣泛。等離子清洗處理機(jī)及設(shè)備的活化作用

◆ 等離子清洗機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域：

金屬---去除金屬表面的油脂,油污等有機(jī)物及氧化層

金屬表面常常會(huì)有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層，在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到完全潔凈和無氧化層的表面。等離子清洗將除去不可見的油膜、微小的銹跡和其它由于用戶接觸室外暴露等等在表面形成的這類污物，而且，等離子清洗不會(huì)在表面留下殘余物。

等離子清洗機(jī)的較佳優(yōu)點(diǎn)在于它不但能清洗掉表面的污物，而且還能增強(qiáng)材料表面的粘附性能。

等離子清洗機(jī)在光電子領(lǐng)域的應(yīng)用：等離子刻蝕，等離子沉積，原子層沉積廣泛用于光電器件制造，包括VCSEL，激光二極管，微透鏡，波導(dǎo)和單片微波集成電路（MMIC）

汽車制造---用于汽車制造過程中的塑料和噴漆前處理

紡織品生產(chǎn)---用于紡織品,濾網(wǎng)和薄膜的親水性,疏水性和表面改性處理

生物醫(yī)療---培養(yǎng)皿提高活性，血管支架，注射器，導(dǎo)管和各種材料的親潤，交合涂覆前處理。

航空航天---絕緣材料，電子元件等表面涂覆前處理

電子---線路板的清洗和蝕刻。膠片，PP等材料的無氧化和活化處理，改進(jìn)可焊性

半導(dǎo)體行業(yè)---晶圓加工及處理去除光刻膠，封裝前預(yù)處理

LED---支架清洗封裝前預(yù)處理

塑料橡膠---提高PS，PE，PTFE，TPE，POM，AS和PP等材料表面活性，使其利于粘接，印刷。

◆ 灰化表面有機(jī)層

-表面會(huì)受到物理擊和化學(xué)處理

等離子清洗機(jī)的原理：用空氣或氧氣等離子體中進(jìn)行活化，塑料聚合物的非極性氫鍵被氧鍵替代，為表面提供自由價(jià)電子與液體分子結(jié)合，從而提高“非粘合性”塑料具有很好的粘合性和可噴涂性。在真空等離子體中，除了空氣和氧氣之外還可以使用其他氣體，這些氣體能夠在氧氣的位置吸附氮?dú)?、胺類或者羰基作為反?yīng)性基團(tuán)。

◆ 等離子清洗機(jī)廣泛用于：1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合； 3. 等離子蝕刻/活化； 4. 等離子去膠； 5. 等離子涂鍍(親水,疏水)； 6. 增強(qiáng)邦定性； 7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。等離子清洗機(jī)，英文叫（Plasma Cleaner）又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面清洗機(jī)、等離子體清洗機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過其等離子表面處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。等離子清洗，是干法清洗中*常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體清洗的一種較輕微的情況。進(jìn)行干式蝕刻工藝的設(shè)備包括反應(yīng)室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應(yīng)室。氣體被導(dǎo)入并與等離子體進(jìn)行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應(yīng)，反應(yīng)的揮發(fā)性副產(chǎn)物被真空泵抽走。等離子體清洗工藝實(shí)際上便是一種反應(yīng)性等離子工藝。近期的發(fā)展是在反應(yīng)室的內(nèi)部安裝成擱架形式，這種設(shè)計(jì)的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應(yīng)性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）